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一個膜材老兵關于柔性AMOLED用的PI技術剖析

編輯:songqiuxia 2017-12-07 09:35:35 瀏覽:7055  來源(yuan):未知(zhi)

  本(ben)文根據(ju)筆者自己切身行業經歷寫成,部(bu)分(fen)內容和目前客戶(hu)端工藝是(shi)否完全一致,本(ben)文無(wu)法對應驗證,如有錯(cuo)誤敬請指正。客戶(hu)需(xu)要保密(mi)部(bu)分(fen),本(ben)文都未涉及。

  聚酰亞胺(an)是指一(yi)類具有(you)酰亞胺(an)結構的(de)高分(fen)子,可分(fen)為(wei)熱固型(xing)(xing)、熱塑(su)型(xing)(xing),可溶(rong)型(xing)(xing)和不可溶(rong)型(xing)(xing)等多(duo)種類型(xing)(xing)。

  一(yi)般常規的(de)(de)聚(ju)酰亞(ya)胺(an)(an)指的(de)(de)是使用均苯(ben)四甲酸二酐(PMDA)和二胺(an)(an)基二苯(ben)醚(ODA)合成(cheng)形(xing)成(cheng)聚(ju)酰胺(an)(an)酸,之后酰亞(ya)胺(an)(an)化而成(cheng)。聚(ju)酰亞(ya)胺(an)(an)可以制作成(cheng)為塑料(liao)、薄膜、纖維、清漆(漿料(liao))等,用于電(dian)機、電(dian)磁線、變(bian)壓器(qi)、FPC、高(gao)溫膠(jiao)帶、鋰電(dian)池標(biao)簽、高(gao)鐵(tie)、液晶顯(xian)示器(qi)、柔性(xing)(xing)OLED顯(xian)示屏(ping)、高(gao)溫除塵袋等多領域。本文重點(dian)介紹用于柔性(xing)(xing)AMOLED屏(ping)的(de)(de)聚(ju)酰亞(ya)胺(an)(an)。

  AMOLED顯示屏在這兩年(nian)成為(wei)行業熱點,特(te)別是柔性(xing)AMOLED顯示屏。

  柔性AMOLED顯示屏目前主要(yao)(yao)是用聚(ju)酰亞(ya)(ya)胺(an)(an)代替(ti)玻(bo)璃來(lai)做基板,從(cong)而使得屏幕變得可彎曲,變硬屏為(wei)軟屏。本文主要(yao)(yao)介紹不(bu)同TFT背(bei)板的AMOLED顯示屏用的聚(ju)酰亞(ya)(ya)胺(an)(an)情況,并介紹和柔性AMOLED顯示屏相(xiang)配套(tao)的觸摸屏用聚(ju)酰亞(ya)(ya)胺(an)(an)。其他用于PMOLED、FPC、保護膜膠帶等無色透明聚(ju)酰亞(ya)(ya)胺(an)(an)不(bu)在本文介紹范圍內。

  用于柔性AMOLED基板的聚酰亞胺

  AMOLED分為:

  1、以玻璃為(wei)基板的硬屏

  2、以聚酰(xian)亞(ya)胺為基(ji)板(ban)的軟屏(ping),其他以超薄玻璃的軟屏(ping)未見(jian)量產(chan)柔性AMOLED的工藝

  柔性AMOLED顯示屏大體工藝介紹:

  在光(guang)(guang)學(xue)玻璃上通過狹縫式(shi)涂(tu)布(bu)頭涂(tu)布(bu)光(guang)(guang)學(xue)高尺寸穩定性聚酰亞(ya)胺漿(jiang)料,再通過氮氣保護固化成膜,制作成軟(ruan)性光(guang)(guang)學(xue)背板(ban)。

  在固化(hua)好的(de)聚酰亞胺膜上(shang)制(zhi)作水(shui)氧阻隔層,一般是多(duo)層沉(chen)積SiOx。

  制(zhi)作好水氧阻(zu)隔層之后,制(zhi)作TFT層,工(gong)序復雜,涉及高(gao)溫,TFT大概為低溫多晶硅和氧化(hua)物(wu)TFT兩類。

  蒸(zheng)鍍(du)OLED發光層(ceng),多次蒸(zheng)鍍(du),蒸(zheng)鍍(du)次數,每家顯(xian)示(shi)屏廠都有不同(tong),之后蒸(zheng)鍍(du)好(hao)陰極(ji)Al。

  在陰極(ji)上制作水(shui)氧(yang)阻隔層(ceng),有(you)一類工藝(yi)直接低(di)溫(wen)有(you)機無(wu)機雜化,形成高水(shui)氧(yang)阻隔層(ceng),有(you)些工藝(yi)水(shui)氧(yang)阻隔層(ceng)效果不佳,需要再外貼水(shui)氧(yang)阻隔膜(mo)。

  AMOLED完成后,再通過激光等方法把載板光學玻璃脫離,制作成柔(rou)性AMOLED。

  柔性AMOLED的分類

  1.以LTPS(低溫多晶硅)-TFT的頂發光工藝。

  以LTPS-TFT的(de)(de)AMOLED,是(shi)目前(qian)10寸以下的(de)(de)屏幕(mu)的(de)(de)主(zhu)流,從三星雙曲面型(xing)手機到(dao)蘋(pin)果的(de)(de)iPhone X,一般產線(xian)(xian)(xian)多(duo)為4.5代(dai)線(xian)(xian)(xian)到(dao)6代(dai)線(xian)(xian)(xian)之間,最大為六代(dai)線(xian)(xian)(xian)。

  目(mu)前,用(yong)于手表、手機(ji)的(de)柔性屏絕大部分(fen)為LTPS-TFT的(de)AMOLED,此項(xiang)技術以韓國(guo)(guo)三星(xing)為主,國(guo)(guo)內京東方、維信諾、國(guo)(guo)顯、華星(xing)光電、天馬和和輝的(de)產線也都(dou)是(shi)LTPS-TFT。

  由于LTPS-TFT的(de)背板制作(zuo)工(gong)藝溫(wen)度高,要(yao)求(qiu)基板的(de)CTE非常小,目前只有耐高溫(wen)低CTE的(de)黃(huang)色(se)PI漿料能夠滿足其(qi)要(yao)求(qiu)。使用耐高溫(wen)低CTE的(de)黃(huang)色(se)PI漿料會造成,從陽極PI一側發出(chu)(chu)的(de)光(guang)線被黃(huang)色(se)PI阻(zu)擋之后,只有黃(huang)光(guang)發出(chu)(chu)。為了現實原(yuan)色(se)顯示,一般通過頂(ding)發光(guang)工(gong)藝,讓光(guang)線從陰極發出(chu)(chu)。

  2.以氧化物(IGZO)TFT的底發光工藝

  以氧化物(wu)TFT的(de)AMOLED,是(shi)大尺(chi)寸柔性顯(xian)示(shi)屏的(de)主流,一(yi)般以8代線(xian)及以上(shang)為(wei)主,技術主要掌握在(zai)LG手中。氧化物(wu)TFT的(de)工藝溫度在(zai)350℃以上(shang),要求(qiu)基板CTE在(zai)9ppm以下(xia),目前有部分廠商的(de)無(wu)色透明聚(ju)酰亞(ya)胺可以達(da)到工藝要求(qiu)。由于(yu)使用無(wu)色透明聚(ju)酰亞(ya)胺,所(suo)以光線(xian)可以從陽極PI一(yi)側發出。

  用于LTPS-TFT的耐高溫黃色聚酰亞胺漿料的要求

  首先需要說(shuo)明(ming)的用(yong)作基板(ban)的PI為漿料(清(qing)漆),不是薄膜,目(mu)前(qian)還未見(jian)貼附薄膜型基板(ban)大規(gui)模量(liang)產。

  用于LTPS-TFT的耐高溫黃色PI漿料主要要求如下:

  玻璃化轉變(bian)溫度為450℃以上

  線性膨脹系數為6PPm以下

  雜(za)質要(yao)求在(zai)10PPm以(yi)下(xia),具體每家顯(xian)示屏(ping)廠不(bu)同(tong)

  溶劑使用NMP

  其(qi)他固(gu)含量(liang)和粘度(du)等每(mei)家各有差異(yi)。

  用于氧化物TFT的無色透明聚酰亞胺漿料的要求

  1.玻璃(li)化轉變溫(wen)度為350℃以上(shang)

  2.線(xian)性膨脹系數為(wei)9PPm以下

  3.成膜(mo)后,透(tou)光率(lv)87%以上

  4.雜質(zhi)要求(qiu)在10PPm以(yi)下,具體(ti)每(mei)家顯示屏廠(chang)不同

  5.溶劑使(shi)用(yong)NMP

  6、其他(ta)固(gu)含量(liang)和粘度(du)等每家(jia)各有差異(yi)

  與柔(rou)性AMOLE顯(xian)示屏配套的觸摸(mo)屏用無色透明聚酰(xian)亞胺

  柔性AMOLED顯示屏配套的觸摸屏分類

  1.以玻璃為觸摸屏蓋板的硬屏

  當前(qian),柔性AMOLED制作的(de)(de)手表、手機(ji)主要配套的(de)(de)觸(chu)摸屏都(dou)是以(yi)玻璃(li)為(wei)蓋板的(de)(de)硬屏。由(you)于(yu)柔性AMOLED顯示屏難以(yi)支持In Cell和On Cell觸(chu)控工藝,當前(qian)都(dou)是采(cai)用Out Cell工藝。

  觸摸屏分為蓋板層(ceng)和導(dao)電(dian)膜(mo)層(ceng)(film Sensor ),導(dao)電(dian)膜(mo)層(ceng)主要以(yi)聚酯硬化膜(mo)、COP膜(mo)為ITO膜(mo)基膜(mo),也(ye)有極大(da)可能用無(wu)色透明聚酰亞(ya)胺薄(bo)膜(mo)來制作(zuo)。

  2.以無色透明PI硬化膜為蓋板的軟屏

  當折(zhe)疊屏發展為可以(yi)批量化之(zhi)后(hou),觸(chu)摸(mo)屏也隨之(zhi)變(bian)為軟(ruan)(ruan)屏。軟(ruan)(ruan)屏的(de)觸(chu)摸(mo)屏要(yao)(yao)求,蓋板和導電層都要(yao)(yao)達到最少10萬(wan)次彎折(zhe),目前(qian)只(zhi)有(you)無色透(tou)明聚酰亞胺可以(yi)達到這(zhe)一(yi)要(yao)(yao)求,其他(ta)光(guang)學薄膜(mo)還暫時沒有(you)達到這(zhe)一(yi)要(yao)(yao)求。

  硬屏可能用到的無色透明聚酰亞胺薄膜

  由于以(yi)聚酯硬化膜、COP膜來(lai)蒸鍍ITO膜,由于薄膜耐溫不高,造成蒸鍍溫度低,ITO膜的(de)方(fang)阻(zu)偏(pian)大。使(shi)用光學級無色透明(ming)聚酰(xian)亞胺薄膜(包括卷材和在玻璃(li)上制作的(de)片材)來(lai)蒸鍍ITO膜可(ke)以(yi)把方(fang)阻(zu)做(zuo)到玻璃(li)ITO導電膜的(de)水平(ping),可(ke)以(yi)顯(xian)著(zhu)提高觸摸屏的(de)觸控靈敏度。

  用(yong)于ITO膜(mo)的(de)無(wu)色透明(ming)聚(ju)酰亞(ya)胺,最(zui)好是卷(juan)(juan)對(dui)卷(juan)(juan)的(de)光(guang)學膜(mo),如(ru)果沒有辦法采購到卷(juan)(juan)對(dui)卷(juan)(juan)的(de)光(guang)學膜(mo),也可以使用(yong)無(wu)色透明(ming)聚(ju)酰亞(ya)胺漿料(liao)通過玻璃涂布方法,制作成(cheng)片材。其主要要求(qiu)如(ru)下:

  1.玻(bo)璃化轉變溫度在260℃以(yi)上

  2.透(tou)光率在90%以上

  3.b值在(zai)1以(yi)下

  軟屏用到的無色透明聚酰亞胺

  軟屏的導電(dian)膜和蓋板(ban)硬化膜都要(yao)(yao)用到(dao)(dao)(dao)無色(se)透明聚(ju)(ju)酰亞胺薄膜,主要(yao)(yao)原因上文已經說到(dao)(dao)(dao),主要(yao)(yao)是(shi)因為耐彎折(zhe)性其他(ta)透明光學膜達(da)不到(dao)(dao)(dao)。軟屏的導電(dian)膜層,當(dang)前似乎只有無色(se)透明聚(ju)(ju)酰亞胺薄膜為基膜的納米(mi)銀(yin)線導電(dian)膜才(cai)可以實現(xian),是(shi)否已經可以大批量生產,筆者不好下定(ding)論。這一(yi)路(lu)(lu)徑是(shi)最接(jie)近可以規模化量產的路(lu)(lu)徑。

  蓋板用無色透明(ming)聚(ju)酰亞(ya)胺硬(ying)化膜(mo),主(zhu)要要求(qiu)在6H以上的(de)硬(ying)度,還(huan)要求(qiu)耐十(shi)萬次以上彎折,這是高難度硬(ying)化膜(mo),和卷(juan)對卷(juan)光學級(ji)無色透明(ming)聚(ju)酰亞(ya)胺薄(bo)膜(mo)一(yi)樣難以生產(chan)。

  觸摸屏用無色透明聚酰亞胺薄膜卷對卷生產難題

  當前,可以實現光(guang)學級無色透明(ming)聚(ju)酰亞胺薄膜卷對卷生產,似乎為日(ri)本三菱瓦斯和韓國科隆(long)。主要難題在于如(ru)下:

  在(zai)空氣中溫度(du)超(chao)過240℃,無(wu)色透明聚酰亞胺(an)薄膜會黃(huang)變。

  低溫下,溶(rong)劑(ji)難以排(pai)除(chu)干凈。

  當前鋼帶流延法,無法達到光學級效果。

  無色(se)透明聚酰亞胺薄膜的單(dan)體太貴,中試(shi)試(shi)驗(yan)費用以千萬乃(nai)至上億計(ji)。

  光學級無(wu)色透明聚(ju)酰亞胺薄膜卷對卷產線(xian),為上述可生(sheng)產企業(ye)自(zi)己組裝改造,處于高度保密狀態。

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