在普通玻璃的(de)一個表面鍍上一層氧(yang)化銦(yin)錫的(de)導電膜，就(jiu)形成了LCD常(chang)用的(de)氧(yang)化銦(yin)錫玻璃，通常(chang)簡稱(cheng)為ITO玻璃。
基本結構
基板：
常用的基板厚度有1.1mm;0.7mm;0.5mm;0.5mm,0.4mm
根據材(cai)料的(de)不同，通常(chang)分為鈉鈣玻(bo)璃(li)和硼硅(gui)玻(bo)璃(li)兩種。
鈉鈣型玻璃
優點：成本低
缺點：含有(you)鈉、鉀等(deng)離子，易(yi)產(chan)生滲透(tou)，影響產(chan)品性能
硼硅型玻璃
優點(dian)：玻璃硬度高，透(tou)過率好
缺點：成本較高
鈉鈣型玻璃基本成分：
SiO2層：
SiO2層的作用：
主要是防止鈉鈣型基(ji)板中的金屬離子擴散滲(shen)透到(dao)ITO層中，影響(xiang)ITO層的導電能力。
SiO2層的膜厚：
標準(zhun)膜厚一般為20-30nm。
ITO（indium Tin Oxid）層(ceng)：
為氧化銦錫的透(tou)明導電(dian)層，其(qi)中I表(biao)示In2O3，T表(biao)示SnO2，一般Sn（即Tin）的含(han)量約為10%。隨著ITO層厚度(du)的增加，ITO層的厚度(du)逐(zhu)漸減小。
分類
根(gen)據基(ji)板(ban)玻璃表面狀態的不同，通常分(fen)為以下三(san)種類型：
TN：未拋光型，直接(jie)在玻璃的(de)浮法面進(jin)行鍍膜。
HTN：簡單(dan)拋(pao)光型/TN精選玻璃，將玻璃的浮(fu)法面(mian)進(jin)行簡單(dan)的拋(pao)光后(hou)，在拋(pao)光面(mian)進(jin)行鍍膜。
STN：超拋(pao)光(guang)型，將玻(bo)璃(li)的浮法面(mian)進(jin)(jin)行精細的拋(pao)光(guang)后，在拋(pao)光(guang)面(mian)進(jin)(jin)行鍍膜(mo)。
生產工藝
ITO玻璃的生產工藝流程主要分為(wei)以下三個(ge)步(bu)驟：
1、切割倒角：
2、拋光；
3、鍍膜
注：TN型玻璃不需要拋光，生產(chan)工藝流程更簡單。
切割磨邊(bian)的工藝流程：
磨邊類型及規格要求：
通(tong)常分為C型和R型兩種(zhong)
倒角(jiao)的形狀及公差：
拋光工藝流程：
用研(yan)磨料(liao)將(jiang)玻(bo)璃表面磨平，使(shi)玻(bo)璃表面平整。對于(yu)STN型ITO玻(bo)璃是必須經過的一(yi)道生產(chan)流程。
鍍膜工藝流程：
鍍膜方法：
鍍膜的方法(fa)有(you)：噴霧法(fa)；涂覆法(fa)；浸漬法(fa)；化學氣相沉積法(fa)；真空蒸發法(fa)；測(ce)射法(fa)，但(dan)目前(qian)工業(ye)化最有(you)效的方法(fa)是磁(ci)控測(ce)射法(fa)。
磁控測射法：
在高(gao)真空反應室中充入一定比例的02和(he)Ar的混(hun)合氣體，在直(zhi)流高(gao)壓(ya)下，Ar被(bei)電離，在電場作用(yong)下轟擊靶材，使(shi)銦和(he)錫(xi)以原子和(he)離子形(xing)式(shi)濺(jian)射出(chu)來，沉積(ji)在基板玻璃表面，同時被(bei)氧化(hua)，形(xing)成氧化(hua)銦錫(xi)膜。
評價參數
透過率
在波(bo)長(chang)為550nm的光波(bo)照射(she)下，具有SI02阻擋層玻璃的透(tou)過(guo)率(lv)不小(xiao)于80%，其(qi)主要取決于玻璃材(cai)料、ITO厚度和折射(she)率(lv)。
透過率定義：
透過玻璃(li)的光透量T2與入射光透量T1之比的百分率
Tt=T2/T1X100%
方塊電阻：
d為膜厚(hou)，I為電(dian)流，L1為膜厚(hou)在電(dian)流方向上的(de)(de)(de)長(chang)度(du)，L2為膜層在垂直電(dian)流方向的(de)(de)(de)長(chang)度(du)，ρ為導(dao)電(dian)膜的(de)(de)(de)體電(dian)阻率。ρ和d可以認為是(shi)不變的(de)(de)(de)定值，當L1=L2時，為正方形(xing)的(de)(de)(de)膜層，無論方塊大小如何，其電(dian)阻率為定值ρ/d，這就是(shi)方塊電(dian)阻的(de)(de)(de)定義，即R=ρ/d
平整度
平整度可用h/1表示(shi)，意思為(wei)在長度為(wei)L的(de)范圍(wei)內，表面(mian)最(zui)高點(dian)與最(zui)低點(dian)的(de)差值為(wei)h。
ITO玻璃(li)基(ji)板平整度(du)參數包(bao)括：
1、玻璃表面粗糙度；
2、基板表面波紋度；
3、基板翹曲度；
4、基板垂直度‘
5、ITO膜表面粗糙度；
6、ITO玻璃基(ji)板(ban)、膜厚(hou)均勻度。
基板翹曲度
用(yong)h/L表示（如(ru)圖(tu)），即翹(qiao)曲的高度與翹(qiao)起(qi)邊的長度之比。
其中要求如下：
1、厚度≥0.7mm的基片玻璃(li)，翹曲度（h/L）≤0.1%
2、厚(hou)度≤0.55mm的基片玻璃，翹曲度（h/L）≤0.15%
3、不(bu)允許有S形翹曲
基板(ban)垂(chui)(chui)直(zhi)度：用a/L表示（如圖）。用來描述玻璃基板(ban)四條邊互相垂(chui)(chui)直(zhi)的程度。
化學穩定性
ITO鍍(du)膜層的耐化(hua)學性能應符合表2中技(ji)術要求。
a、耐堿性
鍍層(ceng)在(zai)溫度為60±2℃，濃(nong)度為10%的(de)氫(qing)氧化鈉（分析(xi)純）溶(rong)液中浸(jin)泡(pao)5分鐘，ITO膜(mo)的(de)方電阻(zu)與浸(jin)泡(pao)前(qian)的(de)方電阻(zu)相(xiang)比不得超過110%。
b、耐酸性
在25±2℃，6%鹽(yan)酸(suan)（分析(xi)純）溶液中浸泡(pao)2分鐘，ITO膜的方電阻(zu)與浸泡(pao)前的方電阻(zu)相比(bi)不得超過(guo)110%。
c、耐溶劑性能
將(jiang)鍍膜(mo)玻(bo)璃放入(ru)丙酮（分(fen)析(xi)純）、無水乙醇（分(fen)析(xi)純）中浸泡(pao)5分(fen)鐘后，ITO膜(mo)的(de)方電阻與浸泡(pao)前的(de)方電阻相(xiang)比不得超過10%。
熱穩定性
在(zai)空氣中經(jing)過30分(fen)鐘300±5℃（觸(chu)摸屏用ITO玻璃是在(zai)200±5℃）高(gao)溫后，ITO膜的方阻的變(bian)化率小于300%
附著力
用3M交(jiao)代粘在(zai)玻璃表(biao)面迅速撕開，ITO層無(wu)明顯(xian)開裂現象。
ITO膜(mo)面的(de)判定(ding)
浮法方向：
在基板玻璃(li)制造過程中，液態(tai)玻璃(li)流動的方向。
主要判定方法
(1)將萬用表(biao)打至(zhi)歐姆檔，用探針(zhen)分別測(ce)試(shi)兩(liang)個點，如果顯示不“1”，則所(suo)測(ce)試(shi)面為ITO膜(mo)面。
(2)用方(fang)塊電阻測試(shi)儀測試(shi)面電阻，如果顯示電阻無窮大，則所測面為非(fei)ITO膜面。
(3)通過大角設別：以16X14英(ying)寸的(de)玻璃為(wei)例。
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